Beschreibung

Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) - 1 buc. Sistemul de gravură ICP-RIE va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistemul trebuie să ofere următoarele capabilități esențiale: a) Sistemul trebuie să fie capabil să proceseze probe cu dimensiuni de până la minim 200 mm; b) Sistemul trebuie să permită procesarea unei game largi de materiale țintă (polimeri, oxizi metalici, nitruri metalice, metale și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție), utilizate în mod frecvent în aplicații de micro- și nanofabricare. Pentru a asigura o astfel de versatilitate funcțională, sistemul trebuie să fie proiectat astfel încât să fie pe deplin compatibil cu gazele reactive fluorurate și gazele pe bază de clor. Configurația camerei de proces și a circuitelor de gaze trebuie să permită alternarea între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a compromite puritatea procesului, fără a genera contaminare încrucișată și fără a afecta reproducibilitatea sau eficiența procesului de gravură; c) Gazele suportate trebuie să includă: Ar, O₂, SF₆, CF₄, CHF₃, Cl₂ și BCl₃ (încălzit). d) Sistemul de vid și sistemul de alimentare cu gaze trebuie sa asigure comutarea sigură și facilă între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a necesita modificări hardware sau utilizarea unor echipamente dedicate pentru fiecare clasă de reactivi.

Vollständige Beschreibung anzeigen

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Prüfen Sie alle Angaben stets in der amtlichen Bekanntmachung.

Zuletzt mit TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) abgeglichen vor 1 Monat

Zur amtlichen Bekanntmachung

Mehr von diesem Auftraggeber

Vollständiges Auftraggeberprofil

5 offene Ausschreibungen derzeit

Messgeräte für elektrische Größen - System zur elektrischen Charakterisierung von organischen Leuchtdioden (OLED) 24 Sep 2026 Noch 3 Tage
Massenspektrometer - Quadrupol-Massenspektrometer 1 Okt 2026 Noch 10 Tage
Rumaenien - Schieberventile - Vakuumkomponenten: Gate-Ventile fuer Ultrahochvakuum; verschiedene Vakuumteile fuer Conflat-Flansche; Druckmessrohre; Ventile fuer Ultrahochvakuum; Elemente zur Konditionierung von UHV-Anlagen / Bakeout 6 Okt 2026 Noch 15 Tage

Jüngste Vergaben

Upgrade-ul electronicii de control a unui microscop Omicron STM/AFM
vergeben an PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 77.607 €
România - Echipamente industriale - Cameră pentru depunerea de straturi subțiri semiconductoare din nitruri III-V, cu uniformitate foarte bună pe suprafețe de mari dimensiuni, utilizând tehnici de pulverizare în câmp magnetron (Cameră de depunere)
vergeben an PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 370.787 €

Änderungsverlauf

Jedes Mal, wenn eine offizielle Quelle diese Bekanntmachung mit geändertem Inhalt erneut veröffentlicht hat. Wir beobachten alle Quellen, die wir indexieren, auch regionale Kopien derselben Bekanntmachung.

5 Aug 2026 Vor dem Angebot lesen
- Geschätzter Wert: Festgelegt auf 464.815 €
- Leistung und Kriterien: Die Beschreibung wurde erweitert. Vor dem Angebot erneut lesen.
- Geschätzter Wert: Festgelegt auf 2.440.746 €

Folgen Sie dieser Ausschreibung, und wir mailen Ihnen jede Änderung sofort. Konto erstellen

Marktkontext

Ø offene Ausschreibung · Druckerzeugnisse: 8.033.274 €; 632 aktuell offen in Europa 94% unter dem Branchenschnitt
Vergabehistorie auf Aperlena: 11 erfasste Bekanntmachungen · 4 vergeben; 448.393 € vergebenes Volumen

Verpassen Sie keine Ausschreibung wie diese

3 neue Bekanntmachungen für Druckerzeugnisse in Rumänien in den letzten 7 Tagen. Erhalten Sie eine E-Mail, wenn neue erscheinen. Kostenlos.

Benachrichtigung einrichten

România - Echipamente de gravură uscată - Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching)