Description

Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) - 1 buc. Sistemul de gravură ICP-RIE va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistemul trebuie să ofere următoarele capabilități esențiale: a) Sistemul trebuie să fie capabil să proceseze probe cu dimensiuni de până la minim 200 mm; b) Sistemul trebuie să permită procesarea unei game largi de materiale țintă (polimeri, oxizi metalici, nitruri metalice, metale și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție), utilizate în mod frecvent în aplicații de micro- și nanofabricare. Pentru a asigura o astfel de versatilitate funcțională, sistemul trebuie să fie proiectat astfel încât să fie pe deplin compatibil cu gazele reactive fluorurate și gazele pe bază de clor. Configurația camerei de proces și a circuitelor de gaze trebuie să permită alternarea între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a compromite puritatea procesului, fără a genera contaminare încrucișată și fără a afecta reproducibilitatea sau eficiența procesului de gravură; c) Gazele suportate trebuie să includă: Ar, O₂, SF₆, CF₄, CHF₃, Cl₂ și BCl₃ (încălzit). d) Sistemul de vid și sistemul de alimentare cu gaze trebuie sa asigure comutarea sigură și facilă între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a necesita modificări hardware sau utilizarea unor echipamente dedicate pentru fiecare clasă de reactivi.

Afficher la description complète

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

Consulter l'avis officiel

Plus de cet acheteur

Profil complet de l'acheteur

5 marchés ouverts actuellement

Instruments de mesure des grandeurs électriques - Système de caractérisation électrique des diodes électroluminescentes organiques (OLED) 24 sept. 2026 3 jours restants
Spectromètres de masse - Spectromètre de masse quadrupolaire 1 oct. 2026 10 jours restants
Vannes coulissantes - Composants sous vide: vannes guillotine pour ultravide; divers elements sous vide sur brides Conflat; jauges de pression; vannes pour ultravide; elements de conditionnement d installations pour ultravide / bakeout 6 oct. 2026 15 jours restants

Attributions récentes

Upgrade-ul electronicii de control a unui microscop Omicron STM/AFM
attribué à PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 77 607 €
România - Echipamente industriale - Cameră pentru depunerea de straturi subțiri semiconductoare din nitruri III-V, cu uniformitate foarte bună pe suprafețe de mari dimensiuni, utilizând tehnici de pulverizare în câmp magnetron (Cameră de depunere)
attribué à PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 370 787 €

Historique des modifications

Chaque republication de cet avis par une source officielle avec un contenu différent. Nous surveillons toutes les sources que nous indexons, y compris les copies régionales du même avis.

5 août 2026 A lire avant de repondre
- Valeur estimée: Fixé à 464 815 €
- Objet et critères: La description a été étoffée. À relire avant de repondre.
- Valeur estimée: Fixé à 2 440 746 €

Suivez ce marche et nous vous ecrivons dès qu'il change. Créer un compte

Contexte de marché

Appel ouvert moyen · Imprimés: 8 033 274 €; 632 ouverts en Europe actuellement 94% en dessous de la moyenne du secteur
Historique de l'acheteur sur Aperlena: 11 avis suivis · 4 attribués; 448 393 € de contrats attribués

Ne manquez plus aucun marché comme celui-ci

3 nouveaux avis pour Imprimés en Roumanie au cours des 7 derniers jours. Recevez un e-mail quand de nouveaux avis paraissent. Gratuit.

Créer mon alerte

România - Echipamente de gravură uscată - Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching)