Descrizione

Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) - 1 buc. Sistemul de gravură ICP-RIE va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistemul trebuie să ofere următoarele capabilități esențiale: a) Sistemul trebuie să fie capabil să proceseze probe cu dimensiuni de până la minim 200 mm; b) Sistemul trebuie să permită procesarea unei game largi de materiale țintă (polimeri, oxizi metalici, nitruri metalice, metale și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție), utilizate în mod frecvent în aplicații de micro- și nanofabricare. Pentru a asigura o astfel de versatilitate funcțională, sistemul trebuie să fie proiectat astfel încât să fie pe deplin compatibil cu gazele reactive fluorurate și gazele pe bază de clor. Configurația camerei de proces și a circuitelor de gaze trebuie să permită alternarea între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a compromite puritatea procesului, fără a genera contaminare încrucișată și fără a afecta reproducibilitatea sau eficiența procesului de gravură; c) Gazele suportate trebuie să includă: Ar, O₂, SF₆, CF₄, CHF₃, Cl₂ și BCl₃ (încălzit). d) Sistemul de vid și sistemul de alimentare cu gaze trebuie sa asigure comutarea sigură și facilă între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a necesita modificări hardware sau utilizarea unor echipamente dedicate pentru fiecare clasă de reactivi.

Mostra la descrizione completa

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica sempre i dettagli nell'avviso ufficiale.

Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 mese fa

Vedi l'avviso ufficiale

Altro da questo committente

Profilo completo del committente

5 gare aperte in questo momento

Strumenti di misura delle grandezze elettriche - Sistema di caratterizzazione elettrica per diodi elettroluminescenti organici (OLED) 24 set 2026 3 giorni rimasti
Spettri di massa - Spettrometro di massa quadrupolare 1 ott 2026 10 giorni rimasti
Valvole a cursore - Componenti per vuoto: valvole a guillotine per ultravuoto; vari elementi per vuoto su flange Conflat; sonde di pressione; valvole per ultravuoto; elementi per il condizionamento di impianti UHV / bakeout 6 ott 2026 15 giorni rimasti

Aggiudicazioni recenti

Upgrade-ul electronicii de control a unui microscop Omicron STM/AFM
aggiudicato a PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 77.607 €
România - Echipamente industriale - Cameră pentru depunerea de straturi subțiri semiconductoare din nitruri III-V, cu uniformitate foarte bună pe suprafețe de mari dimensiuni, utilizând tehnici de pulverizare în câmp magnetron (Cameră de depunere)
aggiudicato a PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 370.787 €

Cronologia delle modifiche

Ogni volta che una fonte ufficiale ha ripubblicato questo bando con contenuti diversi. Monitoriamo tutte le fonti che indicizziamo, comprese le copie regionali dello stesso bando.

5 ago 2026 Leggi prima di partecipare
- Valore stimato: Fissato a 464.815 €
- Oggetto e criteri: La descrizione è stata ampliata. Rileggila prima di partecipare.
- Valore stimato: Fissato a 2.440.746 €

Segui questa gara e ti scriviamo appena cambia. Crea account

Contesto di mercato

Gara aperta media · Stampati: 8.313.288 €; 612 aperte ora in Europa 94% sotto la media del settore
Storico della stazione appaltante su Aperlena: 11 avvisi tracciati · 4 aggiudicati; 448.393 € in contratti aggiudicati

Non perderti nessuna gara come questa

2 nuovi avvisi per Stampati in Romania negli ultimi 7 giorni. Ricevi un'email quando escono nuovi avvisi. Gratis.

Crea il mio avviso

România - Echipamente de gravură uscată - Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching)