Opis

Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) cu plasmă cuplată inductiv, numit în continuare Sistem de gravură ICP-RIE, va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching) - 1 buc. Sistemul de gravură ICP-RIE va fi utilizat pentru dezvoltarea și fabricarea de micro- și nanostructuri cu aplicabilitate în domenii precum micro- și nanoelectronică, optoelectronică, fotonică, precum și în aplicații de tip senzori. Sistemul trebuie să permită gravura anizotropă, selectivă și reproductibilă a unei game largi de materiale: polimeri (ex: PMMA, SU-8), oxizi metalici (ex: SiO2, Al2O3, HfO2, TiO2, ZnO, CuO), nitruri metalice (ex: AlN, TiN), metale (Cr, Ti) și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție (ex: MoS₂). Sistemul trebuie să ofere următoarele capabilități esențiale: a) Sistemul trebuie să fie capabil să proceseze probe cu dimensiuni de până la minim 200 mm; b) Sistemul trebuie să permită procesarea unei game largi de materiale țintă (polimeri, oxizi metalici, nitruri metalice, metale și dicalcogenuri ale metalelor de tranziție), utilizate în mod frecvent în aplicații de micro- și nanofabricare. Pentru a asigura o astfel de versatilitate funcțională, sistemul trebuie să fie proiectat astfel încât să fie pe deplin compatibil cu gazele reactive fluorurate și gazele pe bază de clor. Configurația camerei de proces și a circuitelor de gaze trebuie să permită alternarea între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a compromite puritatea procesului, fără a genera contaminare încrucișată și fără a afecta reproducibilitatea sau eficiența procesului de gravură; c) Gazele suportate trebuie să includă: Ar, O₂, SF₆, CF₄, CHF₃, Cl₂ și BCl₃ (încălzit). d) Sistemul de vid și sistemul de alimentare cu gaze trebuie sa asigure comutarea sigură și facilă între cele două tipuri de chimii în cadrul aceleiași incinte de reacție, fără a necesita modificări hardware sau utilizarea unor echipamente dedicate pentru fiecare clasă de reactivi.

Pokaż pełny opis

Oficjalne źródło

Źródło: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Zawsze weryfikuj szczegóły w oficjalnym ogłoszeniu.

Ostatnia weryfikacja w TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 miesiąc temu

Zobacz oficjalne ogłoszenie

Więcej od tego zamawiającego

Pełny profil zamawiającego

5 otwartych przetargów w tej chwili

Przyrządy do pomiaru wielkości elektrycznych - System charakterystyki elektrycznej diod elektroluminescencyjnych organicznych (OLED) 24 wrz 2026 Zostały 3 dni
Spektrometry mas - Spektrometr mas kwadrupolowy 1 paź 2026 Zostało 10 dni
Zawory zsuwne - Komponenty próżniowe: zawory zasuwowe do ultrawysokiej próżni; różne elementy próżniowe na kołnierze Conflat; przyrządy pomiarowe ciśnienia; zawory do ultrawysokiej próżni; elementy kondycjonowania instalacji UHV / bakeout 6 paź 2026 Zostało 15 dni

Ostatnie udzielenia

Upgrade-ul electronicii de control a unui microscop Omicron STM/AFM
udzielono: PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 77 607 €
România - Echipamente industriale - Cameră pentru depunerea de straturi subțiri semiconductoare din nitruri III-V, cu uniformitate foarte bună pe suprafețe de mari dimensiuni, utilizând tehnici de pulverizare în câmp magnetron (Cameră de depunere)
udzielono: PHANOS TECHNOLOGY S.R.L. 370 787 €

Historia zmian

Każdy przypadek ponownej publikacji tego ogłoszenia przez oficjalne źródło ze zmieniona treścią. Monitorujemy wszystkie źródła, które indeksujemy, w tym regionalne kopie tego samego ogłoszenia.

5 sie 2026 Przeczytaj przed złożeniem oferty
- Wartość szacunkowa: Ustalono na 464 815 €
- Przedmiot i kryteria: Opis został rozszerzony. Przeczytaj ponownie przed złożeniem oferty.
- Wartość szacunkowa: Ustalono na 2 440 746 €

Obserwuj ten przetarg, a napiszemy do Ciebie, gdy tylko się zmieni. Załóż konto

Kontekst rynkowy

Śr. otwarty przetarg · Materiały drukowane: 8 033 274 €; 632 otwartych teraz w Europie 94% poniżej średniej sektora
Historia zamawiającego w Aperlena: 11 zarejestrowanych ogłoszeń · 4 udzielonych; 448 393 € w udzielonych zamówieniach

Nie przegap przetargów takich jak ten

3 nowe ogłoszenia w ostatnich 7 dniach: Materiały drukowane, Rumunia. Otrzymuj e-mail, gdy pojawią się nowe ogłoszenia. Za darmo.

Ustaw mój alert

România - Echipamente de gravură uscată - Sistem de gravură ionică reactivă (Reactive Ion Etching)