Résumé
Résumé généré automatiquementLe CEA-LETI à Grenoble a acquis un équipement 200 mm avec une chambre de gravure profonde du silicium de 200 mm. La chambre doit effectuer des processus de gravure Bosch et non Bosch Si, être compatible avec les gaz fluorés et graver à travers la plaquette. Elle doit traiter en mode automatique, sans modification matérielle, des plaquettes collées (silicium sur verre SOG et silicium sur silicium), des plaquettes d'épaisseurs différentes, des plaquettes avec couches organiques au dos et des plaquettes avec cavités gravées au dos. L'outil comprend une détection de fin de processus OES, une protection des bords biseautés et une détection de fin de processus pour la gravure Via Reveal. Le contrat a été attribué à KLA Corporation. Ni valeur, ni nombre d'offres, ni durée, ni date de remise sur le marché.
Description
Source officielle
Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
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