Zusammenfassung
Maschinell erstellte ZusammenfassungDie CEA-LETI in Grenoble erwarb eine Tiefätzanlage für 200 mm Wafer mit einer Ätzkammer für tiefes Siliziumätzen. Die Kammer muss Bosch- und Nicht-Bosch-Si-Prozesse ausführen, mit fluorhaltigen Gasen kompatibel sein und durch den Wafer ätzen können. Sie muss gebondete Wafer (Silizium auf Glas und Silizium auf Silizium), Wafer unterschiedlicher Dicke, Wafer mit organischen Schichten auf der Rückseite und Wafer mit geätzten Rückseitenkavitäten im Automatikmodus bearbeiten. Die Anlage verfügt über OES-Prozessendetektion, Kantenschutz für facettierte Waferkanten und Prozessendetektion für Via Reveal. Der Auftrag ging an die KLA Corporation. Kein Auftragswert, keine Anzahl der Angebote, keine Laufzeit und kein Datum der erneuten Vermarktung genannt.
Beschreibung
Amtliche Quelle
Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
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