Skip to content
Aperlena
Language:

Integrated UHV cluster for pulsed laser deposition (PLD) and sputter deposition of thin films

Original Integrierter UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten

Awarded Contract award No deadline published
Watch this tender

Bidding is closed. An award or a correction on this notice: an email when the register sees it. Log in

  1. Published
  2. Awarded pending

Summary

Machine-generated summary

ETH Zurich, Laboratory of Inorganic Chemistry, through its Procurement and Export Services department, awarded a contract for an integrated UHV cluster for pulsed laser deposition (PLD) and sputter deposition of thin films. The system must allow material synthesis on oxide substrates up to 10 x 10 mm2 and consist of a PLD chamber with a KrF excimer laser and in-situ high-pressure RHEED, a sputter chamber with DC and RF magnetron sputtering, a central UHV transfer chamber and a load lock chamber. All chambers must reach base pressures below 1 x 10-7 mbar. The official record shows the status contract awarded; no awarded price or number of bids is given on the page.

Description

Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument.

Official source

Source: simap.ch - Swiss public procurement platform

Always verify details on the official notice.

Last verified against simap.ch - Swiss public procurement platform 3 weeks ago

View the official notice

More from this buyer

Full buyer profile

10 open tenders right now

Recent awards

Similar tenders

Market context

Avg. open tender · Laboratory & precision equipment
€5,544,192
2,021 open across Europe right now
Buyer track record on Aperlena
28 notices tracked · 10 awarded
€8,327,888 in awarded contracts

Never miss a tender like this

11 new notices in Laboratory & precision equipment in Switzerland in the last 7 days. Get an email when new ones appear. Free.

Set up my alert
Source

Keyboard shortcuts

Read a list without reaching for the mouse. The shortcuts stay quiet while you type in a field.

j
Next result
k
Previous result
Enter
Open the result
n
Next page
p
Previous page
c
Compare this result
s
Shortlist this result
/
Jump to the search box
?
Show these shortcuts
Esc
Close