Zusammenfassung
Maschinell erstellte ZusammenfassungDie ETH Zürich, Laboratorium für Anorganische Chemie, über die Abteilung Procurement and Export Services, hat einen Vertrag für einen integrierten UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten vergeben. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten bis 10 x 10 mm2 ermöglichen und aus einer PLD-Kammer mit KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED, einer Sputterkammer mit DC- und RF-Magnetronsputtern, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer bestehen. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Der offizielle Datensatz weist den Status Vertrag vergeben aus; kein vergebener Preis und keine Anzahl Angebote sind auf der Seite angegeben.
Beschreibung
Amtliche Quelle
Quelle: simap.ch - Swiss public procurement platform
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