Przejdź do treści
Aperlena
Język:

Zintegrowany klaster UHV do osadzania laserem impulsowym (PLD) i rozpylania cienkich warstw

Oryginał Integrierter UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten

Udzielony Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia Nie opublikowano terminu
Obserwuj ten przetarg

Składanie ofert zakończone. Udzielenie zamówienia lub sprostowanie tego ogłoszenia: e-mail, gdy rejestr to zobaczy. Zaloguj się

  1. Opublikowano
  2. Udzielony oczekuje

Streszczenie

Streszczenie wygenerowane automatycznie

ETH Zürich, Laboratorium Chemii Nieorganicznej, za pośrednictwem działu Procurement and Export Services, zawarło kontrakt na zintegrowany klaster UHV do osadzania laserem impulsowym (PLD) i rozpylania cienkich warstw. System musi umożliwiać syntezę materiałów na podłożach tlenkowych o powierzchni do 10 x 10 mm2 i składać się z komory PLD z laserem excimerowym KrF oraz wysokociśnieniowym RHEED in-situ, komory rozpylania z magnetronami DC i RF, centralnej komory transferowej UHV oraz komory śluzy. Wszystkie komory muszą osiągać ciśnienia podstawowe poniżej 1 x 10-7 mbar.

Opis

Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument.

Oficjalne źródło

Źródło: simap.ch - Swiss public procurement platform

Zawsze weryfikuj szczegóły w oficjalnym ogłoszeniu.

Ostatnia weryfikacja w simap.ch - Swiss public procurement platform 3 tygodnie temu

Zobacz oficjalne ogłoszenie

Więcej od tego zamawiającego

Pełny profil zamawiającego

10 otwartych przetargów w tej chwili

Ostatnie udzielenia

Podobne przetargi

Kontekst rynkowy

Śr. otwarty przetarg · Sprzęt laboratoryjny i precyzyjny
5 443 417 €
2 058 otwartych teraz w Europie
Historia zamawiającego w Aperlena
28 zarejestrowanych ogłoszeń · 10 udzielonych
8 327 888 € w udzielonych zamówieniach

Nie przegap przetargów takich jak ten

11 nowych ogłoszeń w ostatnich 7 dniach: Sprzęt laboratoryjny i precyzyjny, Szwajcaria. Otrzymuj e-mail, gdy pojawią się nowe ogłoszenia. Za darmo.

Ustaw mój alert
Źródło

Skróty klawiszowe

Przeglądaj listę bez sięgania po mysz. Skróty nie działają podczas pisania w polu.

j
Następny wynik
k
Poprzedni wynik
Enter
Otwórz wynik
n
Następna strona
p
Poprzednia strona
c
Porównaj ten wynik
s
Dodaj ten wynik do krótkiej listy
/
Przejdź do pola wyszukiwania
?
Pokaż te skróty
Esc
Zamknij