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Allemagne - Équipements de laboratoire, optiques et de précision (sauf verre) - Système ALD

Original Deutschland - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - ALD-Anlage

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  1. Publié
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Résumé

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L'Institut Leibniz des technologies photoniques achète un système de dépôt de couches atomiques assisté par plasma pour le dépôt de couches minces. L'équipement doit déposer des couches conductrices, semi-conductrices et diélectriques sur divers substrats, du format de puce individuelle (5 x 5 mm) jusqu'à des tranches d'au moins 150 mm. Le traitement multicouche sans interruption du vide est exigé. La livraison inclut un PC de commande avec écran, clavier, souris, licences logicielles et Windows 11. L'acheteur est en Allemagne. Aucune valeur estimée, date limite, condition d'éligibilité ou procédure n'est fournie.

Description

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

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