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Allemagne - Appareils de laboratoire, optiques et de précision (autres que les verres) - Installation ALD

Original Deutschland - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - ALD-Anlage

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Le Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. a attribué un contrat pour une installation de dépôt par couches atomiques assistée par plasma (PE-ALD) destinée au dépôt de couches minces. L'installation doit déposer des couches minces sur des substrats allant du format puce individuelle (5 x 5 mm²) jusqu'à des wafers d'au moins 150 mm et permettre des dépôts reproductibles de couches conductrices, semi-conductrices et diélectriques, y compris en multicouches sans rupture de vide. Un PC de contrôle avec écran, clavier, souris, licences logicielles et Windows 11 est inclus. Le contrat a été remporté par SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH pour 461 344 EUR, soit le montant estimé à moins de 1%. La date d'attribution était le 2026-09-07.

Description

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 29 minutes

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