Sintesi
Sintesi generata automaticamenteL'Istituto Leibniz per le tecnologie fotoniche acquista un sistema di deposizione di strati atomici assistito da plasma per la deposizione di film sottili. L'apparecchiatura deve depositare strati conduttori, semiconduttori e dielettrici su vari substrati, dal formato di chip singolo (5 x 5 mm) fino wafer di almeno 150 mm. È richiesto l'elaborazione di multistrati senza interruzione del vuoto. La consegna include un PC di controllo con monitor, tastiera, mouse, licenze software e Windows 11. Il compratore si trova in Germania. Non sono forniti valori, scadenze, criteri di idoneità o procedure.
Descrizione
Fonte ufficiale
Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
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Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 mese fa
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