Résumé
Résumé généré automatiquementLe Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. a publié un avis de marché pour l'acquisition d'un système de dépôt par couches atomiques assisté par plasma (PE-ALD) destiné au dépôt de couches minces. Le système doit déposer des couches minces sur différents substrats, du format de puce individuelle (5 x 5 mm²) jusqu'à des wafers d'au moins 150 mm. Les exigences centrales sont des processus de dépôt reproductibles pour diverses couches conductrices, semi-conductrices et diélectriques, traitées également sans interruption du vide (multicouches). Un PC de commande avec écran, clavier, souris, licences logicielles appropriées et système d'exploitation actuel (Win 11) doit être fourni. La valeur estimée est de EUR 461,344. La remise des offres est close ; la date limite était le 2026-09-01.
Description
Source officielle
Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.
Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 3 semaines
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