Sintesi
Sintesi generata automaticamenteIl Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. ha pubblicato un avviso di appalto per l'acquisto di un sistema di deposizione di strati atomici assistito al plasma (PE-ALD) destinato alla deposizione di strati sottili. Il sistema dovrà depositare strati sottili su diversi substrati, dal formato di chip singolo (5 x 5 mm²) fino a wafer di almeno 150 mm. I requisiti centrali riguardano processi di deposizione riproducibili per vari strati conduttivi, semiconduttori e dielettrici, da processare anche senza interruzione del vuoto (multistrati). Deve essere fornito un PC di controllo con monitor, tastiera, mouse, licenze software adeguate e sistema operativo aggiornato (Win 11). Il valore stimato è di EUR 461,344. La presentazione delle offerte è chiusa; il termine era il 2026-09-01.
Descrizione
Fonte ufficiale
Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
Verifica sempre i dettagli nell'avviso ufficiale.
Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 3 settimane fa
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