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Allemagne - Diverses machines et appareils à usages spéciaux - Spectromètre de masse à ions secondaires (SIMS) - PR1195891-2050-W

Original Deutschland - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - Secondary ion mass spectrometer (SIMS) - PR1195891-2050-W

Clôturé Avis de marché

Informations clés

Clôturé
Lieu
Allemagne Freiburg
Procédure
Procédure ouverte Toute entreprise peut remettre une offre, en une seule étape, sans présélection. Entrée complète Au-dessus du seuil européen Un marché assez important pour que les règles européennes s'appliquent et qu'il paraisse sur TED. Entrée complète
Code CPV Le vocabulaire commun de l'UE pour ce qui est acheté : un code à huit chiffres présent dans chaque avis. Entrée complète
42990000 Machines diverses à usage spécifique
Langue d'origine
Allemand
Source
via TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), vérifié il y a 4 semaines
Numéro de l'avis
583241-2026
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  1. Publié
  2. Date limite ouvert 30 jours
  3. Attribué en attente

Résumé

Résumé généré automatiquement

Le Fraunhofer IAF en Allemagne souhaite acquérir un spectromètre de masse à ions secondaires (SIMS). L'instrument doit permettre une analyse chimique très sensible des matériaux et structures semi-conducteurs avec une résolution en profondeur et un pouvoir de résolution en masse élevés. Il servira au profilage précis des dopants et impuretés, à la détermination exacte de l'épaisseur et de l'homogénéité des couches, en se concentrant sur les structures avancées à base de III-V et de diamant ainsi que les couches épitaxiales, y compris des substrats de 150 mm, afin de soutenir le développement des procédés, le contrôle qualité et l'optimisation.

Description

Secondary ion mass spectrometer (SIMS) 1 pc. The objective is to procure a highly sensitive SIMS instrument for depth-profiled chemical analysis of semiconductor materials and structures, offering high depth resolution and high mass resolving power. The system shall enable precise dopant and impurity profiling, as well as accurate determination of layer thickness and homogeneity, with a focus on characterizing advanced III-V and diamond-based device structures and epitaxial layers, including 150 mm substrates, to support process development, quality control and optimization at Fraunhofer IAF.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

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Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 4 semaines

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