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Germania - Macchine e apparecchi vari per usi speciali - Spettrometro di massa a ioni secondari (SIMS) - PR1195891-2050-W

Originale Deutschland - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - Secondary ion mass spectrometer (SIMS) - PR1195891-2050-W

Chiusa Bando di gara

Dati principali

Chiusa
Stazione appaltante
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
Dove
Germania Freiburg
Procedura
Procedura aperta Chiunque può presentare un'offerta, in un solo passaggio, senza preselezione. Voce completa Sopra la soglia europea Un appalto abbastanza grande perché si applichino le regole europee e vada pubblicato su TED. Voce completa
Codice CPV Il vocabolario comune dell'UE per l'oggetto dell'acquisto: un codice a otto cifre presente in ogni bando. Voce completa
42990000 Macchinari vari per impieghi speciali
Lingua originale
Tedesco
Fonte
tramite TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), verificato 4 settimane fa
Numero dell'avviso
583241-2026
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  1. Pubblicata
  2. Scadenza aperta 30 giorni
  3. Aggiudicata in attesa

Sintesi

Sintesi generata automaticamente

Il Fraunhofer IAF in Germania intende acquistare uno spettrometro di massa a ioni secondari (SIMS), in un pezzo. Lo strumento dovrà consentire un'analisi chimica altamente sensibile con profilo di profondità di materiali e strutture semiconduttrici, offrendo alta risoluzione in profondità e alto potere risolutivo in massa. Sarà utilizzato per la profilazione precisa di droganti e impurità, per la determinazione accurata di spessore e omogeneità degli strati, con focus su strutture avanzate a base di III-V e diamante, inclusi substrati da 150 mm, a supporto dello sviluppo dei processi, del controllo qualità e dell'ottimizzazione.

Descrizione

Secondary ion mass spectrometer (SIMS) 1 pc. The objective is to procure a highly sensitive SIMS instrument for depth-profiled chemical analysis of semiconductor materials and structures, offering high depth resolution and high mass resolving power. The system shall enable precise dopant and impurity profiling, as well as accurate determination of layer thickness and homogeneity, with a focus on characterizing advanced III-V and diamond-based device structures and epitaxial layers, including 150 mm substrates, to support process development, quality control and optimization at Fraunhofer IAF.

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica sempre i dettagli nell'avviso ufficiale.

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Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 4 settimane fa

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