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Alemania - Diversas máquinas y aparatos para usos especiales - Espectrómetro de masas de iones secundarios (SIMS) - PR1195891-2050-W

Original Deutschland - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - Secondary ion mass spectrometer (SIMS) - PR1195891-2050-W

Cerrada Anuncio de licitación

Datos clave

Cerrada
Órgano de contratación
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
Dónde
Alemania Freiburg
Procedimiento
Procedimiento abierto Cualquier empresa puede presentar oferta, en un solo paso, sin preselección. Entrada completa Por encima del umbral europeo Un contrato lo bastante grande para que se apliquen las normas europeas y deba publicarse en TED. Entrada completa
Código CPV El vocabulario común de la UE para lo que se compra: un código de ocho cifras que lleva todo anuncio. Entrada completa
42990000 Máquinas diversas para usos especiales
Idioma original
Alemán
Fuente
vía TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), verificado hace 1 mes
Número de anuncio
583241-2026
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  1. Publicada
  2. Fecha límite abierta 30 días
  3. Adjudicada pendiente

Resumen

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El Fraunhofer IAF en Alemania tiene la intención de adquirir un espectrómetro de masas de iones secundarios (SIMS), una unidad. El instrumento deberá permitir un análisis químico altamente sensible con perfil de profundidad de materiales y estructuras semiconductoras, con alta resolución en profundidad y alto poder de resolución másico. Se utilizará para la caracterización precisa de dopantes e impurezas, la determinación exacta del espesor y la homogeneidad de las capas, con especial atención a estructuras avanzadas de III-V y basadas en diamante, incluidos sustratos de 150 mm, para apoyar el desarrollo de procesos, el control de calidad y la optimización.

Descripción

Secondary ion mass spectrometer (SIMS) 1 pc. The objective is to procure a highly sensitive SIMS instrument for depth-profiled chemical analysis of semiconductor materials and structures, offering high depth resolution and high mass resolving power. The system shall enable precise dopant and impurity profiling, as well as accurate determination of layer thickness and homogeneity, with a focus on characterizing advanced III-V and diamond-based device structures and epitaxial layers, including 150 mm substrates, to support process development, quality control and optimization at Fraunhofer IAF.

Fuente oficial

Fuente: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Última verificación con TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) hace 1 mes

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