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Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - MBE Anlage - Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage - PR1208516-2050-W

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Maschinell erstellte Zusammenfassung

Die Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12, hat einen Vertrag über eine Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage zum Wachstum von antimonidischen und arsenidischen III-V-Halbleiterschichten vergeben. Die Anlage muss mehrere 150-mm-Wafer gleichzeitig mit epitaktischen Heterostrukturen bedampfen können und mit zurückziehbaren Aluminiumzellen ausgestattet sein, die es erlauben, Aluminium während einer Wartung unter UHV-Bedingungen einzuschmelzen. Dadurch sollen Schichten mit höherer Reinheit und geringerer Defektdichte hergestellt werden. Den Auftrag erhielt die Veeco GmbH.

Beschreibung

MBE Anlage - Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage Beschafft werden soll eine Multi 150mm- Molekularstrahlepitaxieanlage zum Wachstum von Antimonidischen und Arsenidischen III-V Halbleiterschichten. Durch die neue Anlage soll zum einen eine höhere Qualität der Schichten erreicht werden und Schichten mit höherer Reinheit und geringerer Defektdichte sollen hergestellt werden. Die Anlage muss in der Lage sein, mehrere 150mm Wafer simultan mit epitaktischen Heterostrukturen zu bedampfen. Die Anlage muss mit Rückziehbaren Aluminiumzellen ausgestatten sein, welche es erlauben das Aluminium während einer Wartung unter UHV Bedingungen eingeschmolzen zu lasdsen. Dies soll zukünftig die Reinheit der Schichten erhöhen.

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Prüfen Sie alle Angaben stets in der amtlichen Bekanntmachung.

Zuletzt mit TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) abgeglichen vor 3 Wochen

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