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Germania - Macchine a uso generale e speciale - Sistema MBE - Sistema di epitassia a fascio molecolare multi 150 mm - PR1208516-2050-W

Originale Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - MBE Anlage - Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage - PR1208516-2050-W

Aggiudicata Avviso di aggiudicazione

Dati principali

Aggiudicatario
Veeco GmbH
Stazione appaltante
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
Dove
Germania Freiburg
Procedura
Procedura negoziata La stazione appaltante seleziona i candidati e poi negozia le offerte prima di scegliere. Voce completa Sopra la soglia europea Un appalto abbastanza grande perché si applichino le regole europee e vada pubblicato su TED. Voce completa
Codice CPV Il vocabolario comune dell'UE per l'oggetto dell'acquisto: un codice a otto cifre presente in ogni bando. Voce completa
42900000 Macchinari vari per usi generali e specifici
Lingua originale
Tedesco
Fonte
tramite TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), verificato 3 settimane fa
Numero dell'avviso
590687-2026
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  1. Pubblicata
  2. Aggiudicata in attesa

Sintesi

Sintesi generata automaticamente

La Fraunhofer-Gesellschaft, ufficio acquisti B12, ha affidato un contratto per un sistema di epitassia a fascio molecolare multi 150 mm destinato alla crescita di strati semiconduttori III-V di antimoniuri e arseniuri. Il sistema deve poter rivestire simultaneamente più wafer da 150 mm con eterostrutture epitassiali ed essere dotato di celle di alluminio retrattili che consentano di fondere l'alluminio durante la manutenzione in condizioni UHV, al fine di ottenere strati più puri e con minore densità di difetti. Il contratto è stato affidato a Veeco GmbH.

Descrizione

MBE Anlage - Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage Beschafft werden soll eine Multi 150mm- Molekularstrahlepitaxieanlage zum Wachstum von Antimonidischen und Arsenidischen III-V Halbleiterschichten. Durch die neue Anlage soll zum einen eine höhere Qualität der Schichten erreicht werden und Schichten mit höherer Reinheit und geringerer Defektdichte sollen hergestellt werden. Die Anlage muss in der Lage sein, mehrere 150mm Wafer simultan mit epitaktischen Heterostrukturen zu bedampfen. Die Anlage muss mit Rückziehbaren Aluminiumzellen ausgestatten sein, welche es erlauben das Aluminium während einer Wartung unter UHV Bedingungen eingeschmolzen zu lasdsen. Dies soll zukünftig die Reinheit der Schichten erhöhen.

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica sempre i dettagli nell'avviso ufficiale.

Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 3 settimane fa

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