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Alemania - Máquinas de uso general y especial - Sistema MBE - Sistema de epitaxia de haces moleculares multi 150 mm - PR1208516-2050-W

Original Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - MBE Anlage - Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage - PR1208516-2050-W

Adjudicada Adjudicación de contrato

Datos clave

Adjudicatario
Veeco GmbH
Órgano de contratación
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
Dónde
Alemania Freiburg
Procedimiento
Procedimiento negociado El órgano de contratación selecciona candidatos y negocia después las ofertas antes de decidir. Entrada completa Por encima del umbral europeo Un contrato lo bastante grande para que se apliquen las normas europeas y deba publicarse en TED. Entrada completa
Código CPV El vocabulario común de la UE para lo que se compra: un código de ocho cifras que lleva todo anuncio. Entrada completa
42900000 Máquinas diversas para usos generales y especiales
Idioma original
Alemán
Fuente
vía TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), verificado hace 3 semanas
Número de anuncio
590687-2026
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  1. Publicada
  2. Adjudicada pendiente

Resumen

Resumen generado automáticamente

La Fraunhofer-Gesellschaft, departamento de compras B12, ha adjudicado un contrato para un sistema de epitaxia de haces moleculares multi 150 mm destinado al crecimiento de capas de semiconductores III-V de antimonuros y arseniuros. El sistema debe poder recubrir simultáneamente varias obleas de 150 mm con heteroestructuras epitaxiales y debe estar equipado con celdas de aluminio retráctiles que permitan fundir el aluminio durante el mantenimiento en condiciones UHV, para obtener capas más puras y con menor densidad de defectos. El contrato fue adjudicado a Veeco GmbH.

Descripción

MBE Anlage - Multi-150-mm-Molekularstrahlepitaxieanlage Beschafft werden soll eine Multi 150mm- Molekularstrahlepitaxieanlage zum Wachstum von Antimonidischen und Arsenidischen III-V Halbleiterschichten. Durch die neue Anlage soll zum einen eine höhere Qualität der Schichten erreicht werden und Schichten mit höherer Reinheit und geringerer Defektdichte sollen hergestellt werden. Die Anlage muss in der Lage sein, mehrere 150mm Wafer simultan mit epitaktischen Heterostrukturen zu bedampfen. Die Anlage muss mit Rückziehbaren Aluminiumzellen ausgestatten sein, welche es erlauben das Aluminium während einer Wartung unter UHV Bedingungen eingeschmolzen zu lasdsen. Dies soll zukünftig die Reinheit der Schichten erhöhen.

Fuente oficial

Fuente: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica siempre los detalles en el anuncio oficial.

Última verificación con TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) hace 3 semanas

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