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Deutschland - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - ALD-Anlage

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Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. vergab einen Vertrag über eine plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für die Dünnschichtabscheidung. Die Anlage soll Dünnschichten auf Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer abscheiden und reproduzierbare Prozesse für leitfähige, halbleitende und dielektrische Schichten ermöglichen, auch als Multilagen ohne Vakuumunterbrechung. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, Software-Lizenzen und Windows 11 ist enthalten. Den Vertrag gewann die SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH für EUR 461,344, was dem geschätzten Wert innerhalb von 1% entspricht. Das Vergabedatum war der 2026-09-07.

Beschreibung

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Prüfen Sie alle Angaben stets in der amtlichen Bekanntmachung.

Zuletzt mit TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) abgeglichen vor 1 Stunde

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