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Alemania - Aparatos de laboratorio, ópticos y de precisión (excepto vidrios) - Instalación ALD

Original Deutschland - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - ALD-Anlage

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El Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. adjudicó un contrato para una instalación de depósito atómico de capas asistido por plasma (PE-ALD) destinada al depósito de capas finas. La instalación debe depositar capas finas en sustratos desde el formato de chip individual (5 x 5 mm²) hasta wafers de al menos 150 mm y permitir procesos reproducibles de capas conductoras, semiconductoras y dieléctricas, también en multicapas sin interrupción de vacío. Se incluye un PC de control con monitor, teclado, ratón, licencias de software y Windows 11. El contrato fue adjudicado a SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH por 461 344 EUR, igual al valor estimado dentro del 1%. La fecha de adjudicación fue el 2026-09-07.

Descripción

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Fuente oficial

Fuente: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica siempre los detalles en el anuncio oficial.

Última verificación con TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) hace 1 hora

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