Sintesi
Sintesi generata automaticamenteIl Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. ha affidato un contratto per un impianto di deposizione atomica a strati assistito al plasma (PE-ALD) destinato alla deposizione di pellicole sottili. L'impianto deve depositare pellicole sottili su substrati dal formato singolo chip (5 x 5 mm²) fino a wafer di almeno 150 mm e garantire processi riproducibili di strati conduttivi, semiconduttori e dielettrici, anche come multistrati senza interruzione del vuoto. È incluso un PC di controllo con monitor, tastiera, mouse, licenze software e Windows 11. Il contratto è stato aggiudicato a SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH per 461 344 EUR, corrispondente al valore stimato entro l'1%. La data di aggiudicazione era il 2026-09-07.
Descrizione
Fonte ufficiale
Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
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