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Germania - Apparecchiature da laboratorio, ottiche e di precisione (esclusi vetri) - Impianto ALD

Originale Deutschland - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - ALD-Anlage

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Il Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. ha affidato un contratto per un impianto di deposizione atomica a strati assistito al plasma (PE-ALD) destinato alla deposizione di pellicole sottili. L'impianto deve depositare pellicole sottili su substrati dal formato singolo chip (5 x 5 mm²) fino a wafer di almeno 150 mm e garantire processi riproducibili di strati conduttivi, semiconduttori e dielettrici, anche come multistrati senza interruzione del vuoto. È incluso un PC di controllo con monitor, tastiera, mouse, licenze software e Windows 11. Il contratto è stato aggiudicato a SENTECH Gesellschaft für Sensortechnik mbH per 461 344 EUR, corrispondente al valore stimato entro l'1%. La data di aggiudicazione era il 2026-09-07.

Descrizione

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica sempre i dettagli nell'avviso ufficiale.

Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 2 ore fa

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