Skip to content
Aperlena
Language:

Romania - Metallic sputtering devices - Equipment for depositing conductive and dielectric materials

Original România - Dispozitive de pulverizare metalică - Echipamente pentru depuneri materiale conductoare si dielectrice

Awarded Contract award No deadline published
Watch this tender

Bidding is closed. An award or a correction on this notice: an email when the register sees it. Log in

  1. Published
  2. Awarded pending

Summary

Machine-generated summary

I.N.C.D. pentru Microtehnologie - I.M.T Bucuresti awarded a contract for thin-film deposition equipment. The contract has three lots: Lot 1, an electron beam deposition system; Lot 2, a magnetron sputtering system for developing new technologies; and Lot 3, a magnetron sputtering system for standard processing. The equipment deposits nanometre and micron scale thin layers of oxides, metals and dielectric materials for research, development and prototyping in microelectronics and microsystems. The winner was APEL LASER, with an awarded value of EUR 1,044,101.16. The awarded price is 3% below the estimated value of EUR 1,073,552.60.

Description

LOTUL 1: “Echipament de depunere prin vaporizare cu fascicul de electroni (“e-beam deposition”) Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice). LOTUL 2: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare. LOTUL 3: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare standard” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice. Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice).; “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare.; Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice.

Official source

Source: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Always verify details on the official notice.

Last verified against TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 day ago

View the official notice

More from this buyer

Full buyer profile

Recent awards

Similar tenders

Market context

Avg. open tender · Industrial machinery
€1,883,654
2,383 open across Europe right now 43% below sector average
Buyer track record on Aperlena
11 notices tracked · 4 awarded
€3,594,473 in awarded contracts

Never miss a tender like this

24 new notices in Industrial machinery in Romania in the last 7 days. Get an email when new ones appear. Free.

Set up my alert
Source

Keyboard shortcuts

Read a list without reaching for the mouse. The shortcuts stay quiet while you type in a field.

j
Next result
k
Previous result
Enter
Open the result
n
Next page
p
Previous page
c
Compare this result
s
Shortlist this result
/
Jump to the search box
?
Show these shortcuts
Esc
Close