Vai al contenuto
Aperlena
Lingua:

Romania - Dispositivi di spruzzatura metallica - Apparecchiature per la deposizione di materiali conduttivi e dielettrici

Originale România - Dispozitive de pulverizare metalică - Echipamente pentru depuneri materiale conductoare si dielectrice

Aggiudicata Avviso di aggiudicazione Nessuna scadenza pubblicata
Segui questa gara

Le offerte sono chiuse. Un'aggiudicazione o una rettifica su questo avviso: un'email quando il registro lo vede. Accedi

  1. Pubblicata
  2. Aggiudicata in attesa

Sintesi

Sintesi generata automaticamente

I.N.C.D. pentru Microtehnologie - I.M.T Bucuresti ha affidato un contratto per apparecchiature di deposizione di strati sottili. Il contratto comprende tre lotti: il lotto 1, un sistema di deposizione a fascio di elettroni; il lotto 2, un sistema di sputtering magnetron per lo sviluppo di nuove tecnologie; e il lotto 3, un sistema di sputtering magnetron per lavorazione standard. Le apparecchiature depositano strati sottili dell'ordine dei nanometri e dei micron di ossidi, metalli e materiali dielettrici per ricerca, sviluppo e prototipazione in microelettronica e microsistemi. L'aggiudicataria è APEL LASER, per un valore di EUR 1,044,101.16. Il prezzo aggiudicato è inferiore del 3% al valore stimato di EUR 1,073,552.60.

Descrizione

LOTUL 1: “Echipament de depunere prin vaporizare cu fascicul de electroni (“e-beam deposition”) Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice). LOTUL 2: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare. LOTUL 3: “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare standard” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice. Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda vaporizarii cu fascicul de electroni, pentru aplicații în cercetare-dezvoltare și prototipare în domeniile microelectronicii și microsistemelor de diverse tipuri (electrice, optice, mecanice).; “Echipament de depunere prin metoda pulverizării catodice în vid (“magnetron sputtering”) - procesare destinată dezvoltării de tehnologii noi” - Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltării și optimizarii unor procese tehnologice noi de depunere a straturilor subțiri de ordinul nanometrilor și micronilor care sa aiba puritate și calitate ridicată, conform cerințelor specifice aplicațiilor de cercetare și prototipare.; Echipamentul va fi utilizat pentru realizarea de depuneri sub formă de straturi subțiri de ordinul nanometrilor si micronilor de materiale precum oxizi, metale și materiale dielectrice prin metoda pulverizarii catodice magnetron, fiind destinat dezvoltarilor și optimizarilor standard, conform cerințelor specifice dispozitivelor microelectronice.

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica sempre i dettagli nell'avviso ufficiale.

Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 17 ore fa

Vedi l'avviso ufficiale

Altro da questo committente

Profilo completo del committente

Aggiudicazioni recenti

Gare simili

1

giorno rimasto

Abbattitore di temperatura

Romania Macchinari industriali UNIVERSITATEA DE MEDICINA SI FARMACIE "GRIGORE T.POPA" DIN I...

11.794 €

valore stim.

Contesto di mercato

Gara aperta media · Macchinari industriali
1.890.023 €
2.374 aperte ora in Europa 43% sotto la media del settore
Storico della stazione appaltante su Aperlena
11 avvisi tracciati · 4 aggiudicati
3.594.473 € in contratti aggiudicati

Non perderti nessuna gara come questa

29 nuovi avvisi per Macchinari industriali in Romania negli ultimi 7 giorni. Ricevi un'email quando escono nuovi avvisi. Gratis.

Crea il mio avviso
Fonte

Scorciatoie da tastiera

Scorri un elenco senza toccare il mouse. Le scorciatoie restano inattive mentre scrivi in un campo.

j
Risultato successivo
k
Risultato precedente
Invio
Apri il risultato
n
Pagina successiva
p
Pagina precedente
c
Confronta questo risultato
s
Aggiungi questo risultato alla shortlist
/
Vai al campo di ricerca
?
Mostra queste scorciatoie
Esc
Chiudi