Przejdź do treści
Aperlena
Język:

Szwajcaria - Zintegrowany klaster UHV do PLD i rozpylania cienkich warstw

Oryginał Schweiz - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - Integrierter UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten

Zamknięty Ogłoszenie o zamówieniu
Obserwuj ten przetarg

Składanie ofert zakończone. Udzielenie zamówienia lub sprostowanie tego ogłoszenia: e-mail, gdy rejestr to zobaczy. Zaloguj się

  1. Opublikowano
  2. Termin składania otwarte 40 dni
  3. Udzielony oczekuje

Streszczenie

Streszczenie wygenerowane automatycznie

Laboratorium Chemii Nieorganicznej ETH Zurich zamawia zintegrowany klaster UHV (ultrawysokiej próżni) do impulsowego osadzania laserem (PLD) i rozpylania cienkich warstw. System musi składać się z komór PLD i rozpylania, centralnej komory transferowej oraz śluzy do wymiany próbek bez wietrzenia komór procesowych. Wszystkie komory muszą osiągać ciśnienie bazowe poniżej 1x10-7 mbar. Komora PLD wymaga lasera ekscymerowego KrF i RHEED dla temp. do 1100°C. Komora rozpylania musi obsługiwać rozpylanie DC/RF do 700°C.

Opis

Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument.

Oficjalne źródło

Źródło: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Zawsze weryfikuj szczegóły w oficjalnym ogłoszeniu.

Ostatnia weryfikacja w TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 miesiąc temu

Zobacz oficjalne ogłoszenie

Więcej od tego zamawiającego

Pełny profil zamawiającego

10 otwartych przetargów w tej chwili

Ostatnie udzielenia

Podobne przetargi

Kontekst rynkowy

Śr. otwarty przetarg · Sprzęt laboratoryjny i precyzyjny
5 443 417 €
2 058 otwartych teraz w Europie
Historia zamawiającego w Aperlena
28 zarejestrowanych ogłoszeń · 10 udzielonych
8 327 888 € w udzielonych zamówieniach

Nie przegap przetargów takich jak ten

11 nowych ogłoszeń w ostatnich 7 dniach: Sprzęt laboratoryjny i precyzyjny, Szwajcaria. Otrzymuj e-mail, gdy pojawią się nowe ogłoszenia. Za darmo.

Ustaw mój alert
Źródło

Skróty klawiszowe

Przeglądaj listę bez sięgania po mysz. Skróty nie działają podczas pisania w polu.

j
Następny wynik
k
Poprzedni wynik
Enter
Otwórz wynik
n
Następna strona
p
Poprzednia strona
c
Porównaj ten wynik
s
Dodaj ten wynik do krótkiej listy
/
Przejdź do pola wyszukiwania
?
Pokaż te skróty
Esc
Zamknij