Aller au contenu
Aperlena

Suisse - Cluster UHV intégré pour dépôt laser pulsé et pulvérisation de couches minces

Original Schweiz - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - Integrierter UHV-Cluster für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Dünnschichten

Clôturé Avis de marché
Suivre ce marché

Les offres sont closes. Une attribution ou un rectificatif sur cet avis : un e-mail quand le registre le voit. Se connecter

  1. Publié
  2. Date limite ouvert 40 jours
  3. Attribué en attente

Résumé

Résumé généré automatiquement

Le Laboratoire de chimie inorganique de l'ETH Zurich procède à l'achat d'un cluster UHV (ultra-haute vide) intégré pour le dépôt laser pulsé (PLD) et la pulvérisation de couches minces. Le système doit inclure une chambre PLD, une chambre de pulvérisation, une chambre de transfert centrale et un sas pour l'échange d'échantillons sans ventilation. Toutes les chambres doivent atteindre des pressions de base inférieures à 1x10-7 mbar. La chambre PLD nécessite un laser excimère KrF et un RHEED pour des températures jusqu'à 1100°C. La chambre de pulvérisation doit supporter la pulvérisation DC/RF jusqu'à 700°C.

Description

Das Laboratorium für Anorganische Chemie der ETH Zürich plant die Beschaffung eines integrierten UHV-Clusters für gepulste Laserdeposition (PLD) und Sputterdeposition von Heterostrukturen aus Oxid- und Metallschichten. Das System soll die Materialsynthese auf Oxidsubstraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm2 ermöglichen. Es soll aus einer PLD-Kammer, einer Sputterkammer, einer zentralen UHV-Transferkammer und einer Schleusenkammer für den Austausch von Proben und PLD-Targets bestehen, ohne die Prozesskammern zu belüften. Alle Kammern müssen Basisdrücke unter 1 x 10-7 mbar aufweisen. Die PLD-Kammer muss mit einem KrF-Excimerlaser und in-situ Hochdruck-RHEED ausgestattet sein und für routinemässiges epitaktisches Oxidwachstum bei hohen Temperaturen um 1100 °C geeignet sein. Die Sputterkammer muss DC- und RF-Magnetronsputtern von Metall- und Oxidschichten ermöglichen, einschliesslich reaktivem Sputtern in Ar/O₂-Atmosphären, mit Substratheizung bis mindestens 700 °C unter Verwendung eines Probenträgersystems, das mit der PLD-Kammer kompatibel ist. Das System muss den Probentransfer zu einem externen UHV-Transferkoffer ermöglichen und UHV-kompatible Ports für die zukünftige Erweiterung des Clusters vorsehen. Für weitere Details siehe Spezifikationsdokument.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

Plus de cet acheteur

Profil complet de l'acheteur

10 marchés ouverts actuellement

Attributions récentes

Marchés similaires

Contexte de marché

Appel ouvert moyen · Équipements de laboratoire & de précision
5 484 860 €
2 038 ouverts en Europe actuellement
Historique de l'acheteur sur Aperlena
28 avis suivis · 10 attribués
8 327 888 € de contrats attribués

Ne manquez plus aucun marché comme celui-ci

9 nouveaux avis pour Équipements de laboratoire & de précision en Suisse au cours des 7 derniers jours. Recevez un e-mail quand de nouveaux avis paraissent. Gratuit.

Créer mon alerte

Raccourcis clavier

Parcourir une liste sans toucher la souris. Les raccourcis restent inactifs pendant la saisie dans un champ.

j
Résultat suivant
k
Résultat précédent
Entrée
Ouvrir le résultat
n
Page suivante
p
Page précédente
c
Comparer ce résultat
s
Ajouter ce résultat à la présélection
/
Aller au champ de recherche
?
Afficher ces raccourcis
Échap
Fermer