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Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers

Attribué Avis d'attribution

Informations clés

Attributaire
Scia Systems GmbH
Acheteur public
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
Lieu
Allemagne Dresden
Procédure
Procédure négociée L'acheteur sélectionne des candidats, puis négocie les offres avant de choisir. Entrée complète Au-dessus du seuil européen Un marché assez important pour que les règles européennes s'appliquent et qu'il paraisse sur TED. Entrée complète
Code CPV Le vocabulaire commun de l'UE pour ce qui est acheté : un code à huit chiffres présent dans chaque avis. Entrée complète
42900000 Machines diverses à usage général et à usage spécial
Langue d'origine
Allemand
Source
via TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), vérifié il y a 1 mois
Numéro de l'avis
476033-2026
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  1. Publié
  2. Attribué en attente

Description

The tender item is an ion beam etching process tool to be used for 300mm wafer fabrication at the FRAUNHOFER IPMS. The systems will be used for the processing of CMOS wafers in a cleanroom class 1000 (approximately class 6 EN ISO 14644-1) production environment. Therefore, it is necessary to fulfill require-ments regarding metal contamination and particle generation compatible with industry standards.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

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Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

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Appel ouvert moyen · Machines industrielles
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