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Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - Clustertool for Ion Beam Etching of 300mm wafers

Aggiudicata Avviso di aggiudicazione

Dati principali

Aggiudicatario
Scia Systems GmbH
Stazione appaltante
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e. V.
Dove
Germania Dresden
Procedura
Procedura negoziata La stazione appaltante seleziona i candidati e poi negozia le offerte prima di scegliere. Voce completa Sopra la soglia europea Un appalto abbastanza grande perché si applichino le regole europee e vada pubblicato su TED. Voce completa
Codice CPV Il vocabolario comune dell'UE per l'oggetto dell'acquisto: un codice a otto cifre presente in ogni bando. Voce completa
42900000 Macchinari vari per usi generali e specifici
Lingua originale
Tedesco
Fonte
tramite TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), verificato 1 mese fa
Numero dell'avviso
476033-2026
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  1. Pubblicata
  2. Aggiudicata in attesa

Descrizione

The tender item is an ion beam etching process tool to be used for 300mm wafer fabrication at the FRAUNHOFER IPMS. The systems will be used for the processing of CMOS wafers in a cleanroom class 1000 (approximately class 6 EN ISO 14644-1) production environment. Therefore, it is necessary to fulfill require-ments regarding metal contamination and particle generation compatible with industry standards.

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 mese fa

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