Poland - Research and measuring machinery - Supply of equipment for efficient production of large-area nanophotonic semiconductor structures by electron beam lithography

1. Przedmiotem zamówienia jest „Dostawa aparatury do wydajnego wytwarzania nanofotonicznych struktur półprzewodnikowych o dużych powierzchniach metodą elektronolitografii” - dalej EBL (ang. Electron Beam Litography), wraz ze wszystkimi niezbędnymi podsystemami i podzespołami związanymi z potencjalną koniecznością adaptacji systemu EBL do istniejącej bazy laboratoryjnej WTC WAT w laboratorium nr 025c mieszczącym się w budynku 24 na terenie zamkniętym WAT, mające na celu poprawne i stabilne w czasie funkcjonowanie na deklarowanych przez producenta parametrach pracy, wraz z usługami transportu, montażu i instalacji wszystkich jego elementów składowych oraz wraz z elementami niematerialnymi i funkcjonalno-użytkowymi takimi jak m.in.: oprogramowania, pakiet szkoleń. 2. Zakres i opis przedmiotu zamówienia określa załącznik nr 1 do OPiW (Opis Potrzeb i Wymagań). Zamawiający zastrzega, że z uwagi na tryb prowadzonego postępowania (dialog konkurencyjny) dokument OPiW ma charakter wstępny (nieostateczny) i szczegółowe wymagania zaproponowanych rozwiązań technicznych i technologicznych będą przedmiotem dialogu. 3. Zamawiający podczas dialogu będzie omawiał z zaproszonymi wykonawcami wszystkie warunki zamówienia. Przedmiotem dialogu będą następujące obszary: a) uszczegółowienie opisu przedmiotu zamówienia; b) okres i sposób realizacji, etapy cząstkowe przedmiotu zamówienia; c) harmonogram i sposób płatności; d) sposób odbioru przedmiotu zamówienia przez Zamawiającego; e) projekt umowy. Zamawiający dopuszcza możliwość prowadzenia dialogu w formie telekonferencji. Zaproszenie będzie wskazywało dokładne miejsce i godzinę rozpoczęcia spotkania oraz formę jego prowadzenia - spotkanie/telekonferencja. Ostateczny zbiór potrzeb i wymagań zostanie określony po przeprowadzeniu dialogu z Wykonawcami W Specyfikacji Warunków Zamówienia. Zamawiający informuje, że wykonawcy którzy zostaną zaproszeni do dialogu będą musieli odbyć obowiązkową wizję lokalną. Termin wizji Zamawiający poda wraz z zaproszeniem do dialogu. Przed przystąpieniem do wizji, osoby, które będą uczestniczyć w wizji, a będą cudzoziemcami, będą zobligowane do podania Zamawiającemu informacji z danymi takimi jak: państwo, imię i nazwisko, data urodzenia, nr paszportu lub innego dokumentu potwierdzającego tożsamość, obywatelstwo, celem weryfikacji przez Służby Kontrwywiadu Wojskowego. Wszelkie koszty związane z odbyciem wizji lokalnej będzie ponosić samodzielnie każdy Wykonawca. Kwota jaką Zamawiający może przeznaczyć na sfinansowanie zamówienia: 8 580 100,00 zł z Vat. 1. Przedmiotem zamówienia jest „Dostawa aparatury do wydajnego wytwarzania nanofotonicznych struktur półprzewodnikowych o dużych powierzchniach metodą elektronolitografii” - dalej EBL (ang. Electron Beam Litography), wraz ze wszystkimi niezbędnymi podsystemami i podzespołami związanymi z potencjalną koniecznością adaptacji systemu EBL do istniejącej bazy laboratoryjnej WTC WAT w laboratorium nr 025c mieszczącym się w budynku 24 na terenie zamkniętym WAT, mające na celu poprawne i stabilne w czasie funkcjonowanie na deklarowanych przez producenta parametrach pracy, wraz z usługami transportu, montażu i instalacji wszystkich jego elementów składowych oraz wraz z elementami niematerialnymi i funkcjonalno-użytkowymi takimi jak m.in.: oprogramowania, pakiet szkoleń. 2. Zakres i opis przedmiotu zamówienia określa załącznik nr 1 do OPiW (Opis Potrzeb i Wymagań). Zamawiający zastrzega, że z uwagi na tryb prowadzonego postępowania (dialog konkurencyjny) dokument ten ma charakter wstępny (nieostateczny) i szczegółowe wymagania zaproponowanych rozwiązań technicznych i technologicznych będą przedmiotem dialogu. 3. Zamawiający podczas dialogu będzie omawiał z zaproszonymi wykonawcami wszystkie warunki zamówienia. Przedmiotem dialogu będą następujące obszary: a) uszczegółowienie opisu przedmiotu zamówienia; b) okres i sposób realizacji, etapy cząstkowe przedmiotu zamówienia; c) harmonogram i sposób płatności; d) sposób odbioru przedmiotu zamówienia przez Zamawiającego; e) projekt umowy. Zamawiający dopuszcza możliwość prowadzenia dialogu w formie telekonferencji. Zaproszenie będzie wskazywało dokładne miejsce i godzinę rozpoczęcia spotkania oraz formę jego prowadzenia - spotkanie/telekonferencja. Ostateczny zbiór potrzeb i wymagań zostanie określony po przeprowadzeniu dialogu z Wykonawcami. Zamawiający informuje, że wykonawcy którzy zostaną zaproszeni do dialogu będą musieli odbyć obowiązkową wizję lokalną. Termin wizji Zamawiający poda wraz z zaproszeniem do dialogu. Przed przystąpieniem do wizji, osoby, które będą uczestniczyć w wizji, a będą cudzoziemcami, będą zobligowane do podania Zamawiającemu informacji z danymi takimi jak: państwo, imię i nazwisko, data urodzenia, nr paszportu lub innego dokumentu potwierdzającego tożsamość, obywatelstwo, celem weryfikacji przez Służby Kontrwywiadu Wojskowego. Wszelkie koszty związane z odbyciem wizji lokalnej będzie ponosić samodzielnie każdy Wykonawca. Kwota jaką Zamawiający może przeznaczyć na sfinansowanie zamówienia: 8 580 100,00 zł z Vat.