Przejdź do treści
Aperlena

Niemcy - Półprzewodniki - System trawienia plazmowego - PR1241915-2270-W

Oryginał Deutschland - Halbleiter - Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W

Udzielony Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia Nie opublikowano terminu
Obserwuj ten przetarg

Składanie ofert zakończone. Udzielenie zamówienia lub sprostowanie tego ogłoszenia: e-mail, gdy rejestr to zobaczy. Zaloguj się

  1. Opublikowano
  2. Udzielony oczekuje

Streszczenie

Streszczenie wygenerowane automatycznie

Fraunhofer-Gesellschaft, Dział Zakupów B12, przyznała kontrakt na system trawienia plazmowego. System służy do głębokiego trawienia jonowo-reaktywnego krzemu w celu wytwarzania mikrokanalików, membran, zaworów, belek cantilever i przelotek przez krzem. Musi obsługiwać mieszanki gazowe F2 kompatybilne z fluorem jako alternatywę dla SF6, mieć zminimalizowaną objętość komory procesowej, szybkie czasy przełączania gazu dla procesów Bosch, koncepcję Green Production oraz skalowalność rozmiarów podłoży od 150 mm do 200 mm. Kontrakt otrzymała firma HQ-Dielectrics GmbH. W tekście nie podano wartości kontraktu, szacunku, liczby ofert, okresu obowiązywania ani daty ponownego zamówienia.

Opis

Plasma-Ätzanlage Many areas of semiconductors, MEMS, and 3D integration technologies - such as microfluidics, physical, optical, and chemical sensors, and emerging quantum mechanical devices such as so-called Qubits and their integration into silicon substrates - utilize the excellent properties of silicon. In particular, high-precision structuring methods have been developed for these applications. Micro- and nanochannels, membranes, valves, cantilevers, and through-silicon vias are manufactured using Si deep reactive ion etching (Si-DRIE) technology. As a standard etching gas, SF6 is employed in Silicon Deep Reactive Ion Etching (Si-DRIE) processes. SF6 is a potent greenhouse gas with a high global warming potential (GWP) of 25.300 CO2-equivalents. Although the semiconductor industry currently benefits from an exemption regarding SF6 usage, the duration of this exemption remains uncertain. Consequently, the identification of alternative gases to replace SF6 is becoming more important. One promising alternative is F2 gas mixtures. However, their implementation requires specialized modifications to both gas infrastructure and process kits. Hence, in addition to its fluorine compatibility, the requirements for the novel etching system should include scalability and a minimized process chamber volume compared to conventional plasma etching systems. This reduction in chamber volume decreases the total gas flow required, thereby enabling nearly complete gas utilization while minimizing gas-wall interactions. Consequently, faster gas switching times can be achieved in Bosch processes. A key feature of this new developed etching system is its "Green Production" concept, which focuses on the minimization and prevention of environmentally harmful gases. Furthermore, the system enables straightforward scaling of substrate sizes from 150 mm to 200 mm.

Oficjalne źródło

Źródło: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Zawsze weryfikuj szczegóły w oficjalnym ogłoszeniu.

Ostatnia weryfikacja w TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 7 godzin temu

Więcej od tego zamawiającego

Pełny profil zamawiającego

27 otwartych przetargów w tej chwili

Ostatnie udzielenia

Podobne przetargi

Kontekst rynkowy

Śr. otwarty przetarg · Maszyny elektryczne
56 301 698 €
3 304 otwartych teraz w Europie
Historia zamawiającego w Aperlena
132 zarejestrowanych ogłoszeń · 65 udzielonych

Nie przegap przetargów takich jak ten

32 nowych ogłoszeń w ostatnich 7 dniach: Maszyny elektryczne, Niemcy. Otrzymuj e-mail, gdy pojawią się nowe ogłoszenia. Za darmo.

Ustaw mój alert

Skróty klawiszowe

Przeglądaj listę bez sięgania po mysz. Skróty nie działają podczas pisania w polu.

j
Następny wynik
k
Poprzedni wynik
Enter
Otwórz wynik
n
Następna strona
p
Poprzednia strona
c
Porównaj ten wynik
s
Dodaj ten wynik do krótkiej listy
/
Przejdź do pola wyszukiwania
?
Pokaż te skróty
Esc
Zamknij