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Irlande - Fourniture d'un ensemble d'outils de gravure et de dépôt plasma, 4 lots (LA3215C-UCC-CFT)

Original Ireland - Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) - LA3215C-UCC-CFT for the Supply of a Suite of Plasma Etcher and Plasma Deposition Tools, 4 Lots

Clôturé Avis de marché

Informations clés

Clôturé
Montant estimé
3 300 000 €
Acheteur public
Education Procurement Service (EPS)
Lieu
Irlande Southern
Procédure
Procédure ouverte Toute entreprise peut remettre une offre, en une seule étape, sans présélection. Entrée complète Au-dessus du seuil européen Un marché assez important pour que les règles européennes s'appliquent et qu'il paraisse sur TED. Entrée complète
Code CPV Le vocabulaire commun de l'UE pour ce qui est acheté : un code à huit chiffres présent dans chaque avis. Entrée complète
38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Langue d'origine
Anglais
Source
via TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), vérifié il y a 1 mois
Numéro de l'avis
415187-2026
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  1. Publié
  2. Date limite ouvert 30 jours
  3. Attribué en attente

Résumé

Résumé généré automatiquement

L'University College Cork recherche des offres pour la fourniture, la livraison, l'installation et la mise en service d'un ensemble d'outils de gravure et de dépôt plasma pour le Tyndall National Institute. L'appel d'offres est divisé en quatre lots : graveur plasma pour diélectriques au silicium, graveur plasma pour métaux et piézoélectriques, graveur à couche atomique lente et système de dépôt plasma PECVD. Ces équipements soutiendront la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, notamment la microélectronique et les MEMS en silicium, traitant des tranches de 100 mm et 200 mm. Les fournisseurs de technologies de pointe fiables et précises sont invités à soumettre des propositions.

Description

Tenders are sought for the supply delivery, installation and commissioning of a suite of tools in 4 Lots for silicon-based and dielectric materials for University College Cork. The new plasma tools will enhance the capabilities at the Tyndall National Institute for the fabrication of semiconductor devices, especially silicon microelectronics and silicon MEMS, but also other materials such as germanium and silicon carbide. We invite proposals for the following lots; Lot 1 Plasma Etcher Silicon Dielectrics, advanced plasma etching system capable of etching for polysilicon poly-Si silicon dioxide SiO2 silicon nitride SiN thin films using medium high-density plasma processes. Lot 2 Plasma Etcher Metals Piezoelectrics, advanced plasma etching system capable of etching for aluminium Al and alloys molybdenum Mo aluminium scandium nitride AlScN thin films using medium high-density plasma processes. Lot 3 Plasma Etcher Slow and Controllable Rate Atomic Layer Etch for Silicon Dielectrics, advanced plasma etching system capable of both conventional high-rate etching and slow and controllable rate atomic layer etching for silicon Si silicon dioxide SiO2 silicon nitride SiN thin films using medium high-density plasma processes. Lot 4 Plasma Deposition PECVD, advanced plasma enhanced chemical vapour deposition system capable of depositing dielectric SiO2, SiN and amorphous a-Si thin films on semiconductor substrates. This equipment will be essential for etching and depositing a range of materials used in the fabrication of silicon microelectronics, silicon photonics and silicon MEMS devices. The ideal tools will offer precision, reliability, and efficiency to meet the requirements for etching and deposition on both 100 mm and 200 mm diameter wafers. Tenderers with cutting-edge solutions that can achieve these high standards are encouraged to submit their proposals for this vital component in our technological advancement.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

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Historique des modifications

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  1. Agir maintenant
    • Statut: Désormais au statut Clôturé
    • Valeur estimée: Fixé à 3 300 000 €
    • Date limite de remise: Avancée de 1 jour : désormais 17 juillet 2026, 00:00
    • Valeur estimée: Fixé à 3 300 000 €

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Contexte de marché

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