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Espagne - Circuits integrés et microstructures électroniques - Fourniture, installation et mise en service d'un outil de lithographie par faisceau d'électrons jusqu'aux wafers de 8 pouces (UPV04) et d'un SEM (UPV13) pour la Pilot Line de l'UPV

Original España - Circuitos integrados y microestructuras electrónicas - Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

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Résumé

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L'Universitat Politecnica de Valencia (UPV) acquiert deux équipements pour sa Pilot Line dédiée à la recherche et au développement sur les technologies semiconducteurs avancées et de prochaine génération : un outil de lithographie par faisceau d'électrons pour wafers jusqu'à 8 pouces, écrivant des motifs nanométriques pour la nanofabrication en photonique, semiconducteurs et nanotechnologie, et un microscope électronique à balayage (SEM) offrant une résolution nanométrique pour la métrologie, l'inspection, la validation de procédé et le contrôle qualité. Les deux systèmes doivent couvrir ensemble les besoins de patronage et de métrologie pour la fabrication de circuits photoniques intégrés hybrides. Aucune valeur estimée, date limite ni modalité de procédure n'est indiquée.

Description

La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: 4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipo de litografía por haz de electrones que expone patrones en resistencias sensibles mediante un haz de electrones enfocado y escaneado. Escribe características con resolución nanométrica según diseño en archivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricación, especialmente para máscaras y estructuras en fotónica, semiconductores y nanotecnología. • UPV13 - SEM: Equipo de inspección de superficies mediante un haz de electrones enfocado que entrega imágenes de resolución nanométrica. Permite obtener información morfológica y de contraste superficial, así como contraste asociado a diferencias de composición o número atómico, en función de los detectores y modos de imagen disponibles. Dedicado a metrología, inspección y validación de proceso y control de calidad. La idoneidad del equipamiento se fundamenta en su capacidad para cubrir de forma conjunta los requisitos de patronaje y metrología dedicada necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidad permite coordinar la definición de parámetros de exposición y puntos de interés para metrología posterior, integrar la inspección SEM externa post-proceso y asegurar la trazabilidad y coherencia de los datos generados durante el flujo de fabricación.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

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