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Spagna - Circuiti integrati e microstrutture elettroniche - Fornitura, installazione e avviamento di uno strumento di litografia a fascio elettronico per wafer fino a 8 pollici (UPV04) e di un sistema SEM (UPV13) per la Pilot Line dell'UPV

Originale España - Circuitos integrados y microestructuras electrónicas - Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

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  1. Pubblicata
  2. Scadenza aperta 56 giorni
  3. Aggiudicata in attesa

Sintesi

Sintesi generata automaticamente

L'Universitat Politecnica de Valencia (UPV) acquista due sistemi per la sua Pilot Line destinata a ricerca e sviluppo su tecnologie a semiconduttori avanzate e di prossima generazione: uno strumento di litografia a fascio elettronico per wafer fino a 8 pollici, che scrive pattern su scala nanometrica per la nanofabbricazione in fotonica, semiconduttori e nanotecnologia, e un microscopio elettronico a scansione (SEM) con imaging a risoluzione nanometrica per metrologia, ispezione, validazione di processo e controllo qualità. I due sistemi devono coprire congiuntamente le esigenze di patterning e metrologia per la fabbricazione di circuiti fotonici integrati ibridi.

Descrizione

La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: 4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipo de litografía por haz de electrones que expone patrones en resistencias sensibles mediante un haz de electrones enfocado y escaneado. Escribe características con resolución nanométrica según diseño en archivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricación, especialmente para máscaras y estructuras en fotónica, semiconductores y nanotecnología. • UPV13 - SEM: Equipo de inspección de superficies mediante un haz de electrones enfocado que entrega imágenes de resolución nanométrica. Permite obtener información morfológica y de contraste superficial, así como contraste asociado a diferencias de composición o número atómico, en función de los detectores y modos de imagen disponibles. Dedicado a metrología, inspección y validación de proceso y control de calidad. La idoneidad del equipamiento se fundamenta en su capacidad para cubrir de forma conjunta los requisitos de patronaje y metrología dedicada necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidad permite coordinar la definición de parámetros de exposición y puntos de interés para metrología posterior, integrar la inspección SEM externa post-proceso y asegurar la trazabilidad y coherencia de los datos generados durante el flujo de fabricación.

Fonte ufficiale

Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 mese fa

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    • Termine di presentazione: Anticipato di 1 giorno: ora 15 settembre 2026, 00:00
    • Valore stimato: Fissato a 4.242.784 €

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