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Allemagne - Équipement électromécanique - Gravure ionique réactive

Original Deutschland - Elektromechanische Ausrüstung - Reaktives Ionenätzen

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L'Université Friedrich-Alexander d'Erlangen-Nuremberg, agissant pour l'État libre de Bavière, a attribué un marché pour un système de gravure ionique réactive. L'équipement sert à produire des guides d'ondes autonomes par Faraday Cage Etching et soutient l'intégration de diodes p-i-n, les guides d'ondes nanophotoniques avec refroidissement actif à l'hélium par la face arrière, ainsi que des gravures douces préservant la qualité cristalline pour les centres colorés. Il exige une boîte à gaz d'au moins 5 lignes pour les procédés au fluor et à l'oxygène, couvrant les lentilles à immersion solide en diamant et le carbure de silicium, ainsi qu'une conception open load pour les petits échantillons sur wafers porteuses. Le contrat a été attribué à Oxford Instruments GmbH le 18 septembre 2026.

Description

Für die aktuell am Lehrstuhl durchzuführenden Projekte ist die Herstellung freistehender Wellenleiter mittels "Faraday Cage Etching" zentral. Dieser komplexe Prozess erfordert zwei völlig unterschiedliche Ätzregime in derselben Kammer. Entsprechend werden Entkoppelte Plasmadichte und Ionenenergie (für p-i-n Dioden Integration) benötigt. Weitere Forschungsprojekte erfordern eine aktive Helium-Rückseitenkühlung (für nanophotonische Wellenleiter), um "Fließen" oder Verbrennen des Elektronenstrahl-Resists (E-Beam Lack) zu verhindern. Bei zusätzlichen Projekten sowie bei der Nachbearbeitung von FIB-implantierten Defekten hat die Erhaltung der Kristallqualität oberste Priorität. Hochenergetischer Ionenbeschuss würde das Gitter schädigen und die optische Kohärenz der Farbzentren zerstören. Wichtig ist die schonende Entfernung von Oberflächenschichten ("Soft Etch"), ohne neue Defekte tief in den Kristall einzutragen. Letztlich werden für die Strukturierung der Solid Immersion Lenses (SILs) in Diamant ein reines Sauerstoff-Plasma benötigt, während SiC eine Fluor-Chemie (SF₆/CHF₃) erfordert. Entsprechend notwendig ist eine Gasbox mit mindestens 5 Leitungen für Fluor- und Sauerstoff-Prozesse , um beide Materialklassen ohne Hardware-Umbau bearbeiten zu können. Ein "Open Load"-Design ist zudem für die geplante Arbeitsweise (Bearbeitung kleiner Bruchstück-Proben auf Carrier-Wafern) die technisch sinnvollste Lösung, da es im Gegensatz zu Load-Lock-Systemen keine aufwendige Anpassung von Roboter-Handlingsystemen an irreguläre Probengeometrien erfordert.

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 8 heures

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