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Deutschland - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - PVD metal system for QMI connection (IPMS-MRS12.1) - PR926027-2480-P

Vergeben Vergabebekanntmachung

Eckdaten

Zuschlagsempfänger
KLA Corporation
Auftraggeber
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Ort
Deutschland Dresden
Verfahren
Verhandlungsverfahren Der Auftraggeber wählt Bewerber aus und verhandelt dann über die Angebote, bevor er entscheidet. Ganzer Eintrag Oberhalb des EU-Schwellenwerts Ein Auftrag, der groß genug ist, dass EU-weite Regeln gelten und er auf TED erscheinen muss. Ganzer Eintrag
CPV-Code Das EU-weite Vokabular für den Beschaffungsgegenstand: ein achtstelliger Code in jeder Bekanntmachung. Ganzer Eintrag
42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
Originalsprache
Deutsch
Quelle
über TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), geprüft vor 1 Monat
Bekanntmachungsnummer
367006-2026
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Die Angebotsfrist ist vorbei. Ein Zuschlag oder eine Berichtigung zu dieser Bekanntmachung: eine E-Mail, wenn das Register es sieht. Anmelden

  1. Veröffentlicht
  2. Vergeben ausstehend

Beschreibung

1 Stück PVD metal system for QMI connection (IPMS-MRS12.1) Ausrüstung für das Sputtern von AlCu, Al, Ti/TiN und das Rückätzen in unabhängigen Kammern mit planaren Targets über 200-mm-Wafern. Dieses System ist für zwei Prozesslinienanwendungen erforderlich. Eine Anwendung ist die Abscheidung einer Metallfüllung im Inneren von TSV für die fortschrittliche Integration von MEMS-Chiplets. Das zweite Anwendungsszenario ist die Metallsystem- oder Frontside-TSV-Füllungsabscheidung für QMI-Metallisierungsysteme. In beiden Anwendungen ist die konforme Abscheidung der Barriere erforderlich, um eine optimale Kontaktqualität zu erzielen. Optionale Leistungspositionen: 2.4 Handlingsystem Das Werkzeug ist in der Lage, zwei verschiedene Sequenzen gleichzeitig zu bearbeiten. ja/nein 2.9 Handlingsystem Möglichkeit zur Kantenbearbeitung ja/nein 3.6 Kassetten/Wafer-Spezifikationen Verarbeitung von Quarz-Wafern gemäß den oben genannten Spezifikationen ja/nein 4.5 Prozesssystem HF-Generatoren mit automatischem Anpassungsnetzwerk zum Anlegen einer Substratvorspannung in der Kammer für alle anderen Sputterkammern "100 - 600 W; ja/nein" 4.16 Prozesssystem Das Gerät ist mit einer Entgasungsstation ausgestattet. "Chuck temperature 200°C; yes/no" 4.17 Process System Das Gerät ist mit einer Wafer-Pufferstation ausgestattet. "Wafermenge im Puffer ≥6; ja/nein" 4.19 Prozesssystem Chucktemperatur in Prozesskammer für Prozess "Ätzen" "< 20°C; ja/nein" 19.6 Gewährleistungsverlängerung Verlängerung der Gewährleistung um weitere 12 Monate. ja/nein 21.9 Betriebszeit/Reparatur/Zuverlässigkeit Satz von Verschleißteilen (Lampen, O-Ringe, Ventile usw.) zur Abdeckung der Grundgarantiezeit ja/nein

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Prüfen Sie alle Angaben stets in der amtlichen Bekanntmachung.

Zuletzt mit TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) abgeglichen vor 1 Monat

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