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Deutschland - Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke - PVD metal system for QMI connection (IPMS-MRS12.1) - PR926027-2480-P

Attribué Avis d'attribution

Informations clés

Attributaire
KLA Corporation
Acheteur public
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Lieu
Allemagne Dresden
Procédure
Procédure négociée L'acheteur sélectionne des candidats, puis négocie les offres avant de choisir. Entrée complète Au-dessus du seuil européen Un marché assez important pour que les règles européennes s'appliquent et qu'il paraisse sur TED. Entrée complète
Code CPV Le vocabulaire commun de l'UE pour ce qui est acheté : un code à huit chiffres présent dans chaque avis. Entrée complète
42990000 Machines diverses à usage spécifique
Langue d'origine
Allemand
Source
via TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), vérifié il y a 1 mois
Numéro de l'avis
367006-2026
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  1. Publié
  2. Attribué en attente

Description

1 Stück PVD metal system for QMI connection (IPMS-MRS12.1) Ausrüstung für das Sputtern von AlCu, Al, Ti/TiN und das Rückätzen in unabhängigen Kammern mit planaren Targets über 200-mm-Wafern. Dieses System ist für zwei Prozesslinienanwendungen erforderlich. Eine Anwendung ist die Abscheidung einer Metallfüllung im Inneren von TSV für die fortschrittliche Integration von MEMS-Chiplets. Das zweite Anwendungsszenario ist die Metallsystem- oder Frontside-TSV-Füllungsabscheidung für QMI-Metallisierungsysteme. In beiden Anwendungen ist die konforme Abscheidung der Barriere erforderlich, um eine optimale Kontaktqualität zu erzielen. Optionale Leistungspositionen: 2.4 Handlingsystem Das Werkzeug ist in der Lage, zwei verschiedene Sequenzen gleichzeitig zu bearbeiten. ja/nein 2.9 Handlingsystem Möglichkeit zur Kantenbearbeitung ja/nein 3.6 Kassetten/Wafer-Spezifikationen Verarbeitung von Quarz-Wafern gemäß den oben genannten Spezifikationen ja/nein 4.5 Prozesssystem HF-Generatoren mit automatischem Anpassungsnetzwerk zum Anlegen einer Substratvorspannung in der Kammer für alle anderen Sputterkammern "100 - 600 W; ja/nein" 4.16 Prozesssystem Das Gerät ist mit einer Entgasungsstation ausgestattet. "Chuck temperature 200°C; yes/no" 4.17 Process System Das Gerät ist mit einer Wafer-Pufferstation ausgestattet. "Wafermenge im Puffer ≥6; ja/nein" 4.19 Prozesssystem Chucktemperatur in Prozesskammer für Prozess "Ätzen" "< 20°C; ja/nein" 19.6 Gewährleistungsverlängerung Verlängerung der Gewährleistung um weitere 12 Monate. ja/nein 21.9 Betriebszeit/Reparatur/Zuverlässigkeit Satz von Verschleißteilen (Lampen, O-Ringe, Ventile usw.) zur Abdeckung der Grundgarantiezeit ja/nein

Source officielle

Source : TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Vérifiez toujours les détails dans l'avis officiel.

Dernière vérification auprès de TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) il y a 1 mois

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