Beschreibung

The University of Twente is tendering to purchase two new Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition systems. The MESA+ Institute will invest in two new systems for deposition of (doped) dielectric thin films to upgrade and reinforce their state-of-the-art thin film technology and processing capacity. The systems will be used for moderate-temperature deposition of low stress thin films. For the following materials: silicon dioxide (SiO2) boron-doped SiO2 (BSG) phosphorus-doped SiO2 (PSG) boron-phosphorus-doped SiO2 (BPSG) low-stress silicon nitride (SiNx) silicon oxynitride (SiOxNy) amorphous silicon (aSi)

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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- Geschätzter Wert: Festgelegt auf 800.000 €
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Ø offene Ausschreibung · Labor- & Präzisionsgeräte: 5.540.184 €; 2.314 aktuell offen in Europa 86% unter dem Branchenschnitt
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Eckdaten

Auftraggeber: Universiteit Twente
Land: Niederlande
Veröffentlicht: 9 Feb 2026
Geschätzter Wert: 800.000 €
Zuschlagsempfänger: Oxford Instruments GmbH; 870.000 €
Verfahren: Offenes Verfahren; EU-weit (oberhalb des Schwellenwerts)
Originalsprache: en
Bekanntmachungsnummer: 92351-2026
CPV-Codes: 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Netherlands - Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses) - European Tender Two Parallel Plate Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Systems

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