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Deutschland - Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme - Reactive ion etcher

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Zusammenfassung

Maschinell erstellte Zusammenfassung

Bei dieser deutschen Ausschreibung geht es um die Herstellung, den Vertrieb und den Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Die genauen Anforderungen sind dem Lastenheft zu entnehmen, das interessierte Unternehmen konsultieren sollten. Der Auftraggeber sitzt in Deutschland, doch die Bekanntmachung nennt weder die vergabestelle noch einen geschätzten Auftragswert oder eine Frist für die Angebotsabgabe. Unternehmen mit einschlägiger Erfahrung im Bereich Plasmaätzanlagen können sich bewerben; Verfahrensart und Teilnahmebedingungen sind den vollständigen Vergabeunterlagen zu entnehmen.

Beschreibung

Herstellung, Vertrieb und Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Genaueres entnehmen Sie bitte aus dem Lastenheft. 1

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Prüfen Sie alle Angaben stets in der amtlichen Bekanntmachung.

Zuletzt mit TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) abgeglichen vor 1 Monat

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Vollständiges Auftraggeberprofil

3 offene Ausschreibungen derzeit

Für diesen Auftraggeber sind in diesem Sektor noch keine Vergaben erfasst. Übliche Gewinner, Elektrische Maschinen - Deutschland

Unternehmen Zuschläge Vergebenes Volumen Letzter Zuschlag
Siemens Energy Global GmbH & Co. KG 8 €5,8M Jun 2026
Polyma Energiesysteme GmbH 8 €2,2M Aug 2026
Siemens AG 5 k. A. Jun 2026
Starkstrom-Gerätebau GmbH 4 85.300 € Jun 2026
TKMS ATLAS ELEKTRONIK GmbH 4 k. A. Aug 2026

Grundlage: 345 Vergaben mit verknüpftem Unternehmensprofil aus den letzten 2 Jahren.

Änderungsverlauf

Jedes Mal, wenn eine offizielle Quelle diese Bekanntmachung mit geändertem Inhalt erneut veröffentlicht hat. Wir beobachten alle Quellen, die wir indexieren, auch regionale Kopien derselben Bekanntmachung.

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