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Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - CMP-Anlage (IAF-03.1-03.4) - PR1091358-2050-P

Vergeben Vergabebekanntmachung

Eckdaten

Auftraggeber
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Ort
Deutschland Freiburg
Verfahren
Offenes Verfahren Jeder darf in einem Schritt ein Angebot abgeben, ohne Vorauswahl. Ganzer Eintrag Oberhalb des EU-Schwellenwerts Ein Auftrag, der groß genug ist, dass EU-weite Regeln gelten und er auf TED erscheinen muss. Ganzer Eintrag
CPV-Code Das EU-weite Vokabular für den Beschaffungsgegenstand: ein achtstelliger Code in jeder Bekanntmachung. Ganzer Eintrag
42900000 Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke
Originalsprache
Deutsch
Quelle
über TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), geprüft vor 1 Monat
Bekanntmachungsnummer
122648-2026
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  1. Veröffentlicht
  2. Vergeben ausstehend

Beschreibung

CMP-Anlage (IAF-03.1-03.4) 1 Stück CMP-Anlage CMP-Anlage für die chemisch-mechanische Politur von dielektrischen Schichten wie Siliziumoxid auf Si- und III-V-Halbleiterwafern der Größe 100 mm und 150 mm mit integrierter Reinigung und optischer Endpoint Detection. Durch die Politur soll eine Planarisierung der Oberfläche sowie Verbesserung der Oberflächenrauhigkeit erzielt werden, um das anschließende Wafer-Fusion-Bonden von III-V-Halbleitern mit Si-Wafern zu ermöglichen. Option 1.17: Getrennte Leitung für Abfluss von DI-Wasser und für Chemikalien Option 1.22: SESC/GEM Schnittstelle um Daten von der Anlage an das hausinterne MES-System übertragen zu können. Option 2.2: EPD über Drehmoment

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Zuletzt mit TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) abgeglichen vor 1 Monat

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