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Deutschland - Halbleiter - PVT-Reaktor (IISB.WP4.1) - PR1078011-2790-P

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Beschreibung

PVT-Reaktor (IISB.WP4.1) 1 Stück PVT-Reaktor Das Hochtemperaturofensystem wird für die Herstellung von Aluminiumnitrid (AlN)-Kristallen unter Verwendung des physikalischen Dampftransportverfahrens (PVT) eingesetzt. Um einen stabilen, langfristigen Betrieb unter den Bedingungen des AlN-Wachstumsprozesses zu gewährleisten, sollte das PVT-System auf einem wassergekühlten Doppelwandreaktor aus Quarzglas mit einem Innendurchmesser von mindestens 255 mm basieren. Ein zugehöriges Induktions-HF-Heizsystem sollte für die thermische Bearbeitung der aus Graphit bestehenden Heizzone ausgelegt sein. Es wird davon ausgegangen, dass der Reaktor mit einem Bodenbeschickungssystem mit einer Beschickungsvorrichtung ausgestattet ist, die Lasten von mindestens 20 kg aufnehmen kann. Der normale Betrieb des PVT-Werkzeugs für das AlN-Wachstum erfolgt bei Temperaturen bis zu 2500 °C, einem Reaktordruck zwischen 1 und 1000 mbar und einem konstanten Durchfluss von hochreinem Stickstoff oder einem Stickstoff/Argon-Gemisch. Es ist unerlässlich, dass das PVT-System einen Dauerbetrieb von mindestens 240 Stunden ermöglicht. Die Konstruktion des Reaktors und des Vakuumsystems sollte für stark staubhaltige Abgase ausgelegt sein und eine einfache regelmäßige Reinigung ermöglichen. Es ist wichtig, dass die Grundfläche und die Höhe des installierten PVT-Systems 1,2 x 2,1 m bzw. 3 m nicht überschreiten. In Transportstellung muss die Höhe weniger als 2,1 m betragen.

Amtliche Quelle

Quelle: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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