Opis
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.
Oficjalne źródło
Źródło: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
Zawsze weryfikuj szczegóły w oficjalnym ogłoszeniu.
Ostatnia weryfikacja w TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 1 miesiąc temu
Więcej od tego zamawiającego
Pełny profil zamawiającegoOstatnie udzielenia
- Urządzenia laboratoryjne, optyczne i precyzyjne (z wyjątkiem szkła) - Instalacja ALD
- Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - Interferometrisch überwachtes Tm-Hochleistungslasersystem für IR-FRS
- Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) - Los 4 - NIR-Dauerstrichlaser
Podobne przetargi
Kontekst rynkowy
- Śr. otwarty przetarg · Sprzęt laboratoryjny i precyzyjny
- 5 506 547 €
- Historia zamawiającego w Aperlena
- 9 zarejestrowanych ogłoszeń · 3 udzielonych
- 958 204 € w udzielonych zamówieniach
Nie przegap przetargów takich jak ten
67 nowych ogłoszeń w ostatnich 7 dniach: Sprzęt laboratoryjny i precyzyjny, Niemcy. Otrzymuj e-mail, gdy pojawią się nowe ogłoszenia. Za darmo.
Ustaw mój alert