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Système de gravure plasma (Reactive Ion Etching, RIE) pour le Center of MicroNanoTechnology
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Dimanche 4 octobre 2026 Édition 277 Dernière collecte il y a 23 minutes
280 marchés ; le plus important de cette page, de 666 676 €, est passé par ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services.
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Procédure ouverte
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Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
666 676 €
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Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
Attribué
Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
79 383 €
montant attribué
Attribué
Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
369 994 €
montant attribué
Attribué
Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
438 723 €
montant attribué
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Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
Attribué
Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Zürich
422 334 €
montant attribué
Attribué
Procédure ouverte Au-dessus du seuil européen Région lémanique
254 666 €
montant attribué
Ouvert
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