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France - Machines et appareils microélectroniques - Equipement de dépôt LPCVD

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Descripción

Le CEA Grenoble pour ses activités de recherche visant à développer les technologies SOI d'un diamètre de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un système LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) compact basé sur un seul tube vertical. Ce système devra traiter automatiquement des plaquettes de 300 mm destiné au dépôt de silicium non dopé et dopé (avec du bore ou du phosphore).

Fuente oficial

Fuente: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

Verifica siempre los detalles en el anuncio oficial.

Última verificación con TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) hace 1 mes

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