Sintesi
Sintesi generata automaticamenteL'Università di Heidelberg, in Germania, acquista la fornitura e la consegna pronta all'uso di un sistema di deposizione chimica da fase vapore a plasma potenziato (PECVD) con sorgente al plasma accoppiata induttivamente (ICP). Il sistema dovrà depositare film sottili dielettrici di alta qualità, come biossido di silicio, nitruro di silicio, silicio amorfo e carbonio simile al diamante, con spessori controllati dall'nanometro al micrometro e monitoraggio in-situ. La fornitura comprende consegna, installazione, smaltimento degli imballaggi, prova di funzionamento, istruzione, avviamento, collaudo in loco e 3 giorni di formazione per 2 dipendenti. Il budget massimo è di 806.000 EUR, IVA, dazi e sconti inclusi; le offerte superiori non possono essere prese in considerazione.
Descrizione
Fonte ufficiale
Fonte: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)
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Ultima verifica su TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) 3 settimane fa
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Questo committente non ha ancora aggiudicazioni registrate in questo settore. Aggiudicatari abituali, Apparecchiature di laboratorio e di precisione - Germania
| Impresa | Aggiudicazioni | Importo totale aggiudicato | Ultima aggiudicazione |
|---|---|---|---|
| Thermo Fisher Scientific GmbH | 38 | €8,7M | set 2026 |
| Carl Zeiss Microscopy Deutschland GmbH | 22 | €5,7M | set 2026 |
| KEYENCE Deutschland GmbH | 22 | 769.435 € | set 2026 |
| Agilent Technologies Deutschland GmbH | 14 | €2,0M | set 2026 |
| Bruker Daltonics GmbH & Co. KG | 10 | €3,6M | set 2026 |
Sulla base di 899 aggiudicazioni con profilo aziendale collegato negli ultimi 2 anni.
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