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España - Circuitos integrados y microestructuras electrónicas - Suministro de 2 sistemas de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico para la pilot line de la UPV (UPV39 y UPV40)

Original España - Circuitos integrados y microestructuras electrónicas - Suministro de 2 sistemas de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico para la pilot line de la UPV (UPV39 Y UPV40)

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La Universitat Politècnica de València (UPV), en España, contrata la adquisición de dos sistemas de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico de alta precisión para fotónica integrada: un sistema single-sided (UPV39) y un sistema double-sided (UPV40). Los equipos se destinarán a las actividades de investigación, desarrollo, test y medida de la pilot line de la UPV, permitiendo el posicionamiento controlado de fibras ópticas, arrays de fibra y sondas de acoplo respecto a chips, dies y obleas fotónicas. El objetivo es optimizar el acoplo óptico, reducir las pérdidas de inserción y obtener medidas fiables y repetibles.

Descripción

La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: • UPV39 - Sistema de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico SINGLE-SIDED para fotónica integrada para la pilot line de la UPV • UPV40 - Sistema de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico DOUBLE-SIDED para fotónica integrada para la pilot line de la UPV Los sistemas de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico de alta precisión permiten la caracterización experimental de circuitos fotónicos integrados mediante el posicionamiento controlado de fibras ópticas, arrays de fibra y sondas de acoplo respecto a chips, dies, obleas, barras o prototipos fotónicos. Este tipo de equipamiento resulta esencial para actividades de investigación, desarrollo, test y medida en el ámbito de la fotónica integrada, ya que el acoplo óptico entre fibra y chip constituye una de las etapas críticas para obtener medidas fiables, repetibles y de baja incertidumbre. Estos sistemas son necesarios para optimizar el acoplo óptico en configuraciones de entrada, salida y entrada/salida simultánea, tanto en acoplo superficial como en acoplo por borde, permitiendo reducir pérdidas de inserción, maximizar la potencia acoplada y mejorar la estabilidad de las medidas. La disponibilidad de configuraciones single-sided y double-sided permite abordar tanto ensayos con un único puerto óptico alineable como caracterizaciones completas de transmisión óptica entre dos puertos, lo que resulta fundamental para el estudio de filtros, resonadores, interferómetros, guías de onda, acopladores, multiplexores, moduladores y otros componentes fotónicos integrados. 2 La elevada resolución y repetibilidad de posicionamiento, junto con rutinas automáticas de búsqueda de primer acoplo, escaneo y optimización de potencia óptica, permite reducir significativamente el tiempo de ajuste experimental y aumentar la reproducibilidad de los ensayos. Esto es especialmente relevante en entornos de investigación y desarrollo, donde se trabaja con múltiples diseños, plataformas tecnológicas y variantes de proceso, y donde resulta necesario caracterizar prototipos en diferentes fases de fabricación y validación. Asimismo, estos equipos son imprescindibles para el desarrollo de metodologías avanzadas de test electro-óptico, alineamiento de arrays de fibra, validación de procesos de acoplo y generación de datos experimentales fiables sobre circuitos fotónicos integrados. Su incorporación permitirá mejorar la capacidad del laboratorio para realizar medidas ópticas precisas, acelerar la validación de prototipos, reducir la variabilidad asociada al alineamiento manual y aumentar la calidad metrológica de los resultados obtenidos. L1 - Sistema de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico SINGLE-SIDED; L2 - Sistema de micro/nanoposicionamiento y alineamiento óptico DOUBLE-SIDED

Fuente oficial

Fuente: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Última verificación con TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) hace 1 mes

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