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Deutschland - Maschinen für allgemeine und besondere Zwecke - CMP-System für 100/150-mm-Wafer (IAF-03) - PR1199438-2050-P

Cerrada Anuncio de licitación

Datos clave

Cerrada
Órgano de contratación
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Dónde
Alemania Freiburg
Procedimiento
Procedimiento abierto Cualquier empresa puede presentar oferta, en un solo paso, sin preselección. Entrada completa Por encima del umbral europeo Un contrato lo bastante grande para que se apliquen las normas europeas y deba publicarse en TED. Entrada completa
Código CPV El vocabulario común de la UE para lo que se compra: un código de ocho cifras que lleva todo anuncio. Entrada completa
42900000 Máquinas diversas para usos generales y especiales
Idioma original
Alemán
Fuente
vía TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU), verificado hace 1 mes
Número de anuncio
344230-2026
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  1. Publicada
  2. Fecha límite abierta 30 días
  3. Adjudicada pendiente

Descripción

CMP-System für 100/150-mm-Wafer (IAF-03) 1 CMP-System zur chemisch-mechanischen Politur dielektrischer Schichten wie Siliziumoxid auf 100-mm- und 150-mm-Si- und III-V-Halbleiterwafern mit integrierter Reinigung und optischer Endpunkterkennung. Ziel des Polierens ist die Planarisierung und Verbesserung der Oberflächenrauheit, um ein anschließendes Wafer-Fusionsbonden von III-V-Halbleitern mit Si-Wafern zu ermöglichen. Option 1: Separate drainage lines for DI water and chemicals Option 2: SECS/GEM interface Option 3: Torque EPD

Fuente oficial

Fuente: TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU)

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Última verificación con TED - Tenders Electronic Daily (Publications Office of the EU) hace 1 mes

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